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影响高清晰屏蔽玻璃效能的因素有哪些
编辑:迁安益昌电子材料有限公司   时间:2018-09-17

  高清晰屏蔽玻璃利用屏蔽材料阻隔被屏蔽区域与外界的电磁能量传播,是一种防电磁辐射,抗电磁干扰的透光的屏蔽器件,涉及电学、金属材料、光学、化工原料、玻璃、机械等诸多领域,广泛应用于电磁干扰领域。高清晰屏蔽玻璃是利用屏蔽体对电磁能流机械反射、吸收和引导作用,其与屏蔽结构的表面和屏蔽体内部感生的电荷、电流与极化现象密切相关。屏蔽按其原理分为电场屏蔽、磁场屏蔽和电磁场屏蔽,通常所说的电磁屏蔽是指后者,即对电场和磁场同时加以屏蔽。下面为您介绍影响高清晰屏蔽玻璃效能的基本因素:

  1、高清晰屏蔽玻璃屏蔽体表面因阻抗失配引起的反射损耗;

  2、电磁波在屏蔽材料内部传输时,电磁能量被吸收引起传输损耗或吸收损耗;

  3、电磁波在高清晰屏蔽玻璃内壁面之间多次反射引起的多次反射损耗。

  由此可以得到影响高清晰屏蔽玻璃效能的三个基本因素,即材料的电导率、磁导率及材料厚度。当然,对于电磁屏蔽结构,其屏蔽效能还与结构、形状、气密性等有关,对于具体问题,还需要考虑被屏蔽的电磁波频率、场源性质等。高清晰屏蔽玻璃通过特殊工艺处理,对电磁干扰产生衰减,并使屏蔽玻璃对所观察的各种图形不产生失真,具有高保真、高清晰的特点,同时还具有防爆玻璃特性。

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